鄭南把基于MS6502芯片的精簡研究交給周敏德，鄭南告訴周敏德目前MS6502優先攻關，其他研究項目都可以暫停延後。
鄭南的要求也很簡單，不需要原本的CPU功能，不需要太多的自主運算能力，只需要像VCD芯片那樣擁有讀取畫面和聲音的能力即可，但性能要求比VCD芯片更高。
「尤其在接受信號指令實時給出反饋這一塊！」鄭南強調。
雖然同是讀取存儲畫面和聲音，但VCD只是單純的播放功能，人為干預最多也就是快進倒帶或者是選擇曲目一類，可游戲就不一樣了，玩家有太多的隨機性和不可控性，這就需要大大增強芯片的性能才行。
否則要繼續沿用VCD那種類型芯片，就跟讓三歲小孩去做高數一樣，就沒那個能力知道嗎。
同時這款芯片又必須附和目前65光刻機的生產能力。
其實鄭南在提這些要求都有點不好意思，認為自己是不是太過分了，又要求性能，又要求制程不能太苛刻，這簡直是又要馬兒跑又不能吃草。
結果出乎預料的是周敏德很自然的點頭表示沒問題︰「MS6502原本就是作為真正電子計算機級CPU被設計出來的，他的性能設計存在相當大的冗余，所以存在很大的操作空間。」
當然周敏德也建議鄭南︰「不過最好關于制程方面的推進也不能放松，畢竟只有更先進的制程工藝，才能生產性能更好的芯片，實話說毫米級制程已經跟不上時代了。」
周敏德說的比較委婉，但鄭南很清楚在這個芯片制程已經邁入納米領域的時代，毫米級制程基本就是廢物，如果不是第一代VCD芯片是由LD機芯片改良而來，再加上其他調節器的輔助，就連VCD芯片也不能是毫米級。
離開半導體實驗室，鄭南就詢問李興現在的光刻機到底能不能做到18微米級制程。
李興肯定的回答可以︰「雖然65光刻機是二十多年前的技術，但依然能做到理論上1微米的制程生產。」
猶豫片刻，李興還是說︰「我認為現在擺在我們面前的難題不是能不能做18微米制程，而是良品率問題。」
李興告訴鄭南原本按照無線電廠那種日夜不停的倒班生產模式，理論上能做到一個月產出一萬枚以上的芯片，可無線電廠始終都沒有突破兩千枚的產量。
李興表示他信任劉工的人品，他認為這不是無線電廠有意為之，實在是接觸式光刻機的弊端太明顯。
「由于65光刻機本質上就是一台投影曝光器，他需要將光掩模完全覆蓋在光刻膠上，這其中包括烘焙控溫以及覆蓋和光照的多少等等，各種變量工藝太多，中間哪怕出現一點小小偏差，就能導致整張 片報廢。」李興說。
跟後世一樣，高制程推進不下去，不是制造技術方面的原因，歸根結底還是缺少更好的光刻機。
「這些我知道，那我們可以試著把光掩模從光刻膠上抬起來試試看，你不是說國外新一代光刻機都是這麼做的嗎？」鄭南問。
李興苦笑︰「廠長，這樣做行不通的，因為光並不是沿直線傳播的。」
李興告訴鄭南光具有波粒二象性，或許眼楮看起來光是一條直線，可當光穿過窄縫，就是呈現水波紋一樣的擴散特性。
「簡單說就是光在穿過一微米的窄縫以後，馬上就會擴大到兩微米甚至更大，甚至光掩模抬的距離越高，擴散的範圍也會越大，這樣反而還沒原來的制程精細了。」
李興還說光在通過幾個相鄰的窄縫，還會發生自己跟自己干涉的現象，導致成像更加模糊不清。
鄭南扶額，看來自己對光刻機還有芯片制造工業的了解還是淺顯了，沒想
到只是一個制程推進，居然還牽扯到了當年逼瘋愛因斯坦大佬的光的波粒二象性和雙縫干涉實驗上，那可是連愛因斯坦這種級別的大佬都沒轍的玩意。
直接點說，就是接觸式光刻法，良品率無法保證；但要是抬起來光掩模不接觸光刻，精度又無法保證，簡直魚與熊掌不可兼得。
原本鄭南還很雄心勃勃，想著自己能跟那些重生網文的主角一樣，輕松搞出光刻機來。
現在別說後世的深紫外極紫外光刻機了，就一個光的波粒二象性就能輕松卡死自己，遙想自己曾經看的那些輕松造光刻機的網文，那真是對光學系統甚至是最基本的光學芯片知識都完全無知呀！
這板馬日的不是白耽誤自己重生的工夫嗎？
鄭南很想罵娘。
鄭南並沒有放棄︰「所以李主任，我們現在當務之急是必須購買一台國外的新式光刻機，參考他們的設計思路嗎？」
李興點頭說是︰「但也不是絕對的，因為當年光刻機項目下馬前，听說燕都那邊已經繞過波粒二象性和雙縫干涉特性，搞出投影式光刻機的設計思路了，如果我們能拿到設計圖紙或者材料，我們繼續深化研究，應該也能造出不接觸的投影光刻機。」
考古式科研。
對于李興的話，鄭南腦中突然冒出這個後世互聯網上經常用于調侃的詞匯，現在鄭南居然有了深刻的沉浸式體驗。
好家伙，這些電子廠為了單純的追求效益，究竟放棄了多少先進技術。
「不管怎麼說，李主任你現在的任務就是先把用接觸式光刻機生產18微米芯片的技術方案搞定，不行我們把剩下那些原本作為備用的鏡片也全用上，多造幾台光刻機，拿數量彌補一下吧。」鄭南說。
這是沒辦法的辦法，鄭南信任莊衛的技術，只要這些鏡片不被人為損壞，至少使用半年以上是沒問題的。
而半年以後，莊衛那邊超精磨床到貨，新一代鏡片不好說，但至少65光刻機的鏡片他就能批量生產，就沒問題了。
至于下一代非接觸光刻機的設計圖紙和材料那些，鄭南只能另外想辦法了。
李興鄭重點頭，表示目前光刻難度在光掩模的制造上︰「不過關于更精細的光掩模制作，我已經想到了方案，接下來我再進行幾輪論證，不出意外肯定能趕上MS6502芯片的生產任務。」